0371-5536 5392 0371-5519 9322
該設(shè)備以電子束蒸發(fā)方式鍍膜設(shè)備，主要用于制備各種導(dǎo)電薄膜、半導(dǎo)體薄膜、鐵電薄膜、光學(xué)薄膜，微納器件微加工，電鏡樣品預(yù)處理等，尤其適用蒸鍍各種難熔金屬材料。不僅可用于玻璃片、硅片等硬質(zhì)襯底，也可用用于PDMS、PTFE、PI等柔性襯底上鍍膜.
電子束蒸發(fā)鍍膜儀技術(shù)參數(shù)：
|
產(chǎn)品名稱 |
電子束蒸發(fā)鍍膜儀 |
|
產(chǎn)品型號(hào) |
CY-X-EIB500 |
|
使用條件 |
環(huán)境溫度5～40℃ |
|
電源 |
三相380V |
|
電壓 |
220V 50HZ |
|
功率 |
<20千瓦 |
|
水壓 |
<2.5bar |
|
鍍層監(jiān)控 |
采用SQM160膜厚儀進(jìn)行監(jiān)控，涂層厚度不均勻度小于6%。 |
|
加熱燈 |
4只鹵素加熱燈用于除氣，1個(gè)氖燈用于照明 |
|
電極接口 |
9、帶2路金屬蒸發(fā)電極接口，備用 |
|
水冷系統(tǒng) |
水壓監(jiān)測(cè) |
|
觀察窗 |
直徑100mm，帶X光濾光玻璃 |
|
控制系統(tǒng) |
觸屏系統(tǒng) |
|
真空室尺寸 |
蒸發(fā)室尺寸：Φ500*H500mm |
|
電子槍 |
新型電子槍，6孔坩堝 |
|
樣品轉(zhuǎn)盤 |
樣品尺寸：<150mm，樣品臺(tái)可旋轉(zhuǎn)，樣品臺(tái)表面與電子槍表面距離上下調(diào)節(jié)，調(diào)節(jié)距離為200mm-250mm，樣品臺(tái)可加熱，加熱溫度<500℃。 |
|
系統(tǒng)真空度 |
A、極限真空：烘烤12～24小時(shí)，連續(xù)抽氣，真空小于5x10-5Pa B、抽氣速率：從大氣開始， 40 分鐘內(nèi)真空 < 5x10-4Pa C、系統(tǒng)泄漏率：關(guān)機(jī)12小時(shí)后，測(cè)量真空室真空度<10Pa |
|
真空機(jī)組 |
FB1200分子泵+VRD-16前級(jí)泵+旁抽閥+閘板閥+切斷閥+復(fù)合真空計(jì)+鍍膜監(jiān)測(cè)真空計(jì)接口（備用） |
